99,7% aluminiumoxid wafer poleringsplade

Chemshun 99,7%Al2O3 aluminiumoxidsubstrat er et nyt materiale med høj renhed og stor størrelse. Det har fremragende fysiske egenskaber og stabile kemiske egenskaber, og prisen er god sammenlignet med andre materialer. Aluminiumoxid med høj renhed er under konstant udvikling af den globale førende forskning og avancerede keramik- og finkeramikfabrikker.

99,7% aluminiumoxid wafer poleringsplade til kemisk-mekanisk polering. Som en vigtig komponent i CMP's kemisk-mekaniske poleringsproces. CMP er nødvendig for produktionsprocessen af ​​safir og wafer til halvledere.

Chemshun Ceramics' højrenhedsplader til polering og lapning af safir af aluminiumoxidkeramik med 99,7 % renhed. Skiverne er formet som en PIBM-produktionsproces. Det er en intern avanceret teknologi. PIBM løser med succes det centrale problem med revner og deformation i store aluminiumoxidkeramiktyper. PIBM-teknologien åbner et nyt vindue for fin keramik.